Kapasite deoksidasyon nanferrosiliconse esansyèlman akòz reyaksyon segondè nan Silisyòm ak oksijèn ak estabilite nan pwodwi yo. Mekanis espesifik la se jan sa a:
Baz tèmodinamik nan afinite oksijèn fò:
Reyaksyon chimik gratis enèji ant Silisyòm (Si) ak oksijèn (O) trè ba (2SiO + O₂=2SiO₂, ΔG₂₀₀₀K=-1520kJ/mol), byen lwen pi ba pase sa ki genyen ant fè ak oksijèn (2Fe + O₂=2Fe + O₂=2Fe₂₂₀₀₀K=-1520)=-540kJ/mol). Sa vle di ke nan tanperati ki wo, Silisyòm preferans konbine ak oksijèn, fondamantalman retire oksijèn soti nan asye fonn / fè.
Fasil retire pwodwi reyaksyon:
Silisyòm reyaji ak oksijèn pou fòme diyoksid Silisyòm (SiO₂), ki gen yon gwo pwen k ap fonn nan 1713 degre. Nan asye fonn (1500-1600 degre), li egziste kòm patikil solid ak yon dansite (2.65 g / cm³) pi ba anpil pase sa yo ki an asye fonn (7.8 g / cm³). Li byen vit flote nan sifas la nan asye a fonn epi yo retire ansanm ak salop la, reyalize separasyon oksijèn efikas.
Estabilite Tanperati wo -Asire Reyaksyon konplè:
Silisyòm gen yon pwen k ap fonn nan 1410 degre, pandan y ap fè alyaj Silisyòm (tankouFeSi75) gen yon pwen k ap fonn nan apeprè 1200 degre, pi ba pase anviwònman an wo -tanperati asye/distribisyon (1500-1600 degre). Apre adisyon, FeSi fonn rapidman, sa ki pèmèt atòm Silisyòm difize konplètman epi reyaji konplètman ak oksijèn, evite deoksidasyon lokal enkonplè.
Karakteristik kle Sipòte Ferosilicon deoksidasyon
Segondè kontni Silisyòm amelyore kapasite dezoksidasyon:
Souvan itilize klas ferrosilicon endistriyèl yo se FeSi75 (kontni silikon 72% -80%) akFeSi65(Silisyòm kontni 60%-65%). Plis kontni Silisyòm nan pi wo a, se pi wo efikasite deoksidasyon pou chak inite mas ferosilicon. Pou egzanp, 1 kg nan Ferro Silisyòm 75% ka retire apeprè 0.4 kg nan oksijèn nan asye fonn, ki se 1.5-2 fwa sa yo ki nan alyaj ba-silikon.
Pousantaj reyaksyon adapte ak pwosesis metaliji:
Pousantaj reyaksyon ant Silisyòm ak oksijèn ogmante ak tanperati. Pi wo pase 1500 degre, reyaksyon an ka ranpli nan kèk minit, satisfè kondisyon yo nan pwosesis asye pou "deoksidasyon rapid ak sik fusion pi kout," evite oksidasyon segondè nan asye fonn akòz tan deoksidasyon twòp long.
Pa gen enpurte danjere prezante:
Konpozan prensipal Ferro Silisyòm yo se sèlman Silisyòm ak fè, gratis nan eleman danjere tankou souf ak fosfò (endistriyèl -klas 75# FeSi mande pou S mwens pase oswa egal a 0.05%, P mwens pase oswa egal a 0.04%). Li pa kontamine asye a fonn pandan deoksidasyon, asire pite nan materyèl la metal.
Aplikasyon pratik ak efè dezoksidasyon Ferosilicon
Deoksidasyon prensipal nan Steelmaking:
Nan konvètisè ak elektrik ak founo asye, alyaj ferrosilicon souvan itilize nan konbinezon ak ferromanganèz ak aliminyòm ("ferrosilicon-manganèz pre-deoksidasyon + aliminyòm final deoksidasyon"). FerroSilicon 75% adisyon a se tipikman 0.3% -0.8% nan mas la asye fonn, sa ki ka diminye kontni an oksijèn nan asye a fonn soti nan 80-100ppm a 30-50ppm, diminye enklizyon oksid ak amelyore severite a ak pèfòmans nan pwosesis nan asye a.
Deoksidasyon fondasyon:
Nan pwodiksyon an fè ductile ak gri fè jete, fesi alyaj ka ansanm reyalize tou de efè dezoksidasyon ak inokulasyon. Ajoute 0.2% -0.5% FeSi 75 ka retire oksijèn nan fè fonn (anpeche fòmasyon nan enklizyon oksid ki afekte grafit spheroidization) ak ankouraje presipitasyon grafit, kidonk amelyore pwopriyete yo mekanik nan depoze.
Dezoksidasyon alyaj espesyal:
Nan pwodiksyon an asye pur ak ba -alyaj asye, lè l sèvi avèkba -aliminyòm ferrosilicon(Al mwens pase oswa egal a 1%) ka anpeche fòmasyon nan enklizyon AlN soti nan aliminyòm reyaji ak nitwojèn nan asye a, asire rezistans korozyon alyaj la ak soudabilite.
Faktè kle ki afekte efè dezoksidasyon Ferosilicon
Seleksyon Klas Ferosilicon:
Pou klas asye ki gen gwo -kondisyon (tankou asye portant ak asye prentan), FeSi75 pi pito asire dezoksidasyon bon jan; pou asye kabòn òdinè, FeSi65 ka itilize balans pri ak efè.
Distribisyon ak metòd adisyon:
Li ta dwe ajoute anvan oswa pandan pwosesis tapping nan asye fonn pou fè pou evite adisyon twò bonè ki mennen nan oksidasyon Silisyòm pa salop la; gwo fou elektrik ka itilize yon metòd "koule-anplis" pou asire bon jan melanj de ferosilicon ak asye fonn.
Kontwòl tanperati asye:
Lè tanperati a pi ba pase 1400 degre, to reyaksyon ant Silisyòm ak oksijèn diminye anpil. Li nesesè asire ke tanperati asye a pa tonbe pi ba pase 1500 degre pou fè pou evite yon rediksyon nan efikasite deoksidasyon.
Korespondan debaz laitier:
Lè baz laitier (CaO/SiO₂) kontwole ant 1.8 ak 2.2, li ankouraje konbinezon SiO₂ ak CaO pou fòme salop silikat kalsyòm (CaSiO₃), diminye re-dissolution SiO₂ nan asye a ak amelyore estabilite deoksidasyon.
Avantaj ak valè endistri dezoksidasyon ferrosilicon
Segondè pri-efikasite:
Pri deoksidasyon ferrosilicon se sèlman 1/3 a 1/2 sa yo ki nan aliminyòm, epi li se lajman ki disponib, fè li deoxidizer ki pi ekonomik nan pwodiksyon endistriyèl -echèl.
Bonjan adaptabilite pwosesis:
Li ka adapte ak diferan ekipman métallurgique tankou konvètisè, founo elektrik, ak fondri, san yo pa bezwen modifikasyon pwosesis adisyonèl, epi li fasil pou opere.
Li gen plizyè fonksyon:
pandan y ap deoksidize, li ka konplete Silisyòm ak ajiste konpozisyon an nan asye / fè (tankou amelyore fòs nan asye ak pèfòmans nan Distribisyon nan jete), konsa reyalize "yon sèl materyèl pou plizyè itilizasyon".
